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Low-damping sub-10-nm thin films of lutetium iron garnet grown by molecular-beam epitaxy

机译:低阻尼亚10nm薄膜的l铁质石榴石生长   分子束外延

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摘要

We analyze the structural and magnetic characteristics of (111)-orientedlutetium iron garnet (Lu$_3$Fe$_5$O$_{12}$) films grown by molecular-beamepitaxy, for films as thin as 2.8 nm. Thickness-dependent measurements of thein- and out-of-plane ferromagnetic resonance allow us to quantify the effectsof two-magnon scattering, along with the surface anisotropy and the saturationmagnetization. We achieve effective damping coefficients of $11.1(9) \times10^{-4}$ for 5.3 nm films and $32(3) \times 10^{-4}$ for 2.8 nm films, amongthe lowest values reported to date for any insulating ferrimagnetic sample ofcomparable thickness.
机译:我们分析了通过分子相似性外延生长的(111)取向lut铁石榴石(Lu $ _3 $ Fe $ _5 $ O $ _ {12} $)薄膜的结构和磁性特征,该薄膜厚度仅为2.8 nm。面内和面外铁磁共振的厚度相关测量值使我们能够量化两磁子散射的影响,以及表面各向异性和饱和磁化强度。对于5.3 nm薄膜,我们获得的有效阻尼系数为$ 11.1(9)\ times10 ^ {-4} $,对于2.8 nm薄膜,我们获得了$ 32(3)\ times 10 ^ {-4} $,这是迄今为止任何绝缘的最低值可比厚度的铁磁性样品。

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